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2019年研究生学术年会暨国际学术论坛学术报告之一:台湾陈胜吉教授来我校作学术报告

作者: 审核人: 日期:2019-08-26

2019819日上午9:00-11:00,应化学学科邀请,台湾明志科技大学陈胜吉教授在我校曲江校区yl23455永利会议室,为化学学科师生作了题为“Fabrication and applications of alloy, oxide and nitride films produced by high power impulse magnetron sputtering”的学术报告。

高功率脉冲磁控溅射 (High power impulse magnetron sputtering, HiPIMS) 系统之高脉冲电流可产生1018 – 1019 m-3之高电子密度,此电子密度范围高于传统直流磁控溅射(Direct Current Magnetron Sputtering, DCMS)系统1014–1016 m-3的三个级数。因HiPIMS系统具有产生高密度电浆的特性,其应用在薄膜具有很多优点,例如:溅射原子离化率高、薄膜致密性高、薄膜从优取向程度高、薄膜表面粗糙度低、薄膜附着力高、低基板温度及可大面积镀膜等。因此HiPIMS系统已广泛受到产、学、研各界的高度重视。

陈教授团队经多年研究发现,运用HiPIMS这些特点可沉积出高性能的合金、氧化物及氮化物薄膜。此次学术报告从四个部分介绍合金及化合物的HiPIMS制备:(1)高垂直磁异向性的FePt合金薄膜;(2)高电导率的CuxO薄膜;(3)高载流子浓度的pNiO薄膜;(4)高电导率的pCu3N氮化物薄膜。同时介绍了上述高性能氧化物及氮化物薄膜电致变色元件、异质结构场效应晶体、光传感器及离子传感器等领域的实际应用。

陈教授的工作引起了参会师生的极大兴趣,与参会师生进行了互动交流。另外,陈教授还介绍了明志科技大学、材料系及电浆与薄膜科技中心的相关情况,希望与我校化学学科建立长远的合作关系。

陈胜吉教授简介:

台湾明志科技大学教授,材料工程系主任。荣获“科技部补助大专校院奖励特殊优秀人才”。主要研究方向为透明导电薄膜开发及应用、热电薄膜开发及应用、磁及光记录薄膜开发、高功率脉冲磁控溅镀系统开发。


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